-マスクアライナは、フォトリソグラフィ加工を行うための露光装置です。~ -基板位置に対するフォトマスクの位置を正確に位置決めするために、顕微鏡光学系と微動機構を備えています。~ -光源は超高圧水銀ランプであり、基板に対し並行光を照射可能です。~ -本装置では、4inchウェハーの露光が可能です。~