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eng_保有設備
へ行く。
1 (2015-03-14 (土) 01:51:30)
2 (2015-03-14 (土) 01:51:45)
3 (2015-03-18 (水) 04:00:30)
4 (2015-06-20 (土) 04:40:20)
5 (2015-12-15 (火) 02:59:21)
6 (2016-01-17 (日) 01:13:37)
7 (2017-05-05 (金) 13:42:20)
8 (2019-08-07 (水) 00:02:49)
9 (2020-09-14 (月) 01:48:39)
10 (2020-11-08 (日) 03:50:42)
11 (2020-11-29 (日) 02:25:32)
12 (2020-12-25 (金) 01:27:50)
13 (2021-07-16 (金) 21:48:16)
14 (2021-08-14 (土) 17:31:07)
15 (2021-09-01 (水) 01:58:09)
16 (2022-01-22 (土) 00:08:14)
Facility
†
[Fabrication system,experimental equipment]
Micropowder blasting
Galvano laser scan system
Electric muffle furnance
： Yamato Scientific FO-310
Mask aligner
： Canon PLA-501S
Spray developer
Spin coater
： Oshigane SC-200
Ion sputtering system
： JEOL JFC-1500
Reactive Ion Etching
： ANELVA DEM-451
Vacuum vapor deposition system
： JEOL JEE-400
Polisher
Router
Draft chamber
：N2FACTORY NGDS-2
Draft chamber
Aspirator
Hotplate stirrer
Hotplate
Electric balance
Photolithography Room (Clean room)
Ultrasonic cleaner
3D printer
： Micro M3D
Deionized Water Production Unit： SHIBATA PURE PORT P-101
Dry cabinet：SANPLATEC DGK-220C-A
[Analytical instruments]
Scanning Electron Microscope
： Shimadzu Rika Corporation e-SEM
Spectrophotometer
： Shimadzu Corporation UVmini-1240
Microscope
Confocal laser scanning microscope
： Keyence VK-8500
Dynamic Light-Scattering Particle Size Analyzer
： Horiba SZ-100S
Surface roughness measuring instrument ： Tokyo seimitsu Surfcom480A
Transmission Electron Microscope
： Hitachi HT7800
[Computing cluster, Software]
Parallel computer
（Linux CentOS6.3） ： Dell T5600 4 units
Analytical PC（Windows7) ： 3 units
Analytical PC（Windows8) ： 4 units
![[PukiWiki]]( image/title.gif "[PukiWiki]")
