2018年2月8日に2017年度 卒業研究発表会が開催されました。~
本年度は、4年生が下記の卒業研究テーマについて研究発表(5名)・中間発表（1名）を行いました。~
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[卒業研究発表]
---王　遠偉　：　4相流マイクロ流体デバイスを用いた金ナノ粒子合成の研究~
---滝澤　駿太：　CF4ドライエッチングによる微細流路加工特性の研究~
---梁　毅楊　：　マイクロ流体デバイス内における非混和多相流の可視化に関する研究~
---池知　裕太：　シリコンウェハとガラス基板の陽極接合に関する研究~
---杉田　修一：　マイクロ流体デバイスを用いた金ナノ粒子合成における金濃度の影響~

[卒業研究中間発表]
---磯川　寛　：　シリコン基板の反応性イオンエッチング加工特性の研究~
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