フォトリソグラフィ室（クリーンルーム） †

• フォトリソグラフィ室は紫外線が遮断されたクリーンルーム（クラス1000〜10000）です。
• クリーンルームは小さなほこりの付着も許されない半導体の製造を行なうのに必要な作業空間内のホコリやゴミを限定した数に清浄度（クラス）を管理された部屋です。
• この部屋は清浄度を管理するために、FFU（ファン付き高性能HEPAフィルタユニット）により、外からのゴミが進入しないように部屋の内部を陽圧に制御しています。
• 作業者はクリーンスーツを着用後に、入口に設置されているエアーシャワーを通ってクリーンルームに入ります。
• フォトリソグラフィ加工室では基板上にマイクロパターンを形成するために紫外線により硬化したり、現像液に溶解するなどの物性が変化するフォトレジスト（感光性材料）の露光、現像を行います。
  
  
  
  
  
  
  
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